鍋爐廠激光氨逃逸一體化連續在線分析儀大量現貨

抽取式氨逃逸在線監測系統TK-1100是由我公司榮譽出品，本系統包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。本系統安裝方式為原位式高溫伴熱抽取。本系統基本原理是基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術，具有安裝方便、測量精度高、可靠性好、響應速度快、抗干擾能力強等特點。

氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區，逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。

性能參數：

檢測氣體：NH3

檢測量程：0-20ppm

分辨率：0.1ppm

重復性：≤1%FS

線性度：≤1%FS

響應時間：10S(含取樣)

漂移：≤±1%FS

TK-1100氨逃逸在線分析儀由于采用了激光半導體二極管吸收光譜（TDLAS）技術，從根本上解決了采樣預處理帶來的諸如響應滯后、維護頻繁、易堵易漏、易損件和運行費用高等各種問題。

功能參數：

預熱：30min

數字輸出：RS232/485

模擬輸出：4-20mA大負載900Ω

電源：AC100-240V/47-63Hz/3W

繼電器輸出：AC/DC 24V/1A；濃度超限報警、透過率異常報警、激光器溫度異常報警

測量氣體（這里是氨氣）通過和一個來自內置參比單元的光譜相比較來識別。為了執行線吸收光譜，TK-1100使用一個激光二極管作為光源，這是因為激光的光譜寬度比分子吸收光譜窄很多。被測氣體的濃度從測量通道（PT）中的吸收光譜計算出。對于測量條件的任何更改，例如：由于廢氣中出現更高含塵量或者光學組件受到污染，測量都會自動進行補償以確保在一個大范圍的操作情況下，測量結果的性。

環境參數：

光程：1.5米

樣氣溫度：≤800℃

樣氣壓力：大氣壓±5KPa

采樣流量：2-3L/min

環境溫度：-10~55℃

環境壓力：70KPa-120KPa

外形尺寸：1200mm×850mm×400mm

重量：120kg

TK-1100氨逃逸特點：1.網格數量根據煙道尺寸和用戶需求可選，通過網格取樣更有代表性；2.取樣口背向煙氣流向，取樣口大小根據煙道內流速等參數確定，作防磨處理，可有效防灰防磨；

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